通过带为3000-3500nm的红外滤光敏感元件

摘要

本实用新型公开了一种通过带为3000-3500nm的红外滤光敏感元件，包括以红外石英为原材料的基板，以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层，且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本实用新型所得到的一种通过带为3000-3500nm的红外滤光敏感元件，其在温度测量过程中，可大大的提高信噪比，提高测试精准度，适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件50％Cut on=3000±30nm，50％Cut on=3500±30nm，3050～3400nm，Tavg≥80%，300～6500nm（通带区域除外），Tavg≤0.1%。

主权项

一种通过带为3000‑3500nm的红外滤光敏感元件，包括以红外石英为原材料的基板（2），以Ge、SiO为第一镀膜层（1）和以Ge、SiO为第二镀膜层（3），且所述基板（2）设于第一镀膜层（1）与第二镀膜层（3）之间，其特征是所述第一镀膜层（1）由内向外依次排列包含有103nm厚度的Ge层、455nm厚度的SiO层、66nm厚度的Ge层、265nm厚度的SiO层、189nm厚度的Ge层、452nm厚度的SiO层、141nm厚度的Ge层、145nm厚度的SiO层、134nm厚度的Ge层、397nm厚度的SiO层、180nm厚度的Ge层、463nm厚度的SiO层、108nm厚度的Ge层、161nm厚度的SiO层、135nm厚度的Ge层、437nm厚度的SiO层、231nm厚度的Ge层、613nm厚度的SiO层、339nm厚度的Ge层、494nm厚度的SiO层、219nm厚度的Ge层、649nm厚度的SiO层、324nm厚度的Ge层、516nm厚度的SiO层、234nm厚度的Ge层、813nm厚度的SiO层、219nm厚度的Ge层、400nm厚度的SiO层；所述的第二镀膜层（3）由内向外依次排列包含有75nm厚度的Ge层、203nm厚度的SiO层、72nm厚度的Ge层、102nm厚度的SiO层、90nm厚度的Ge层、191nm厚度的SiO层、51nm厚度的Ge层、160nm厚度的SiO层、75nm厚度的Ge层、197nm厚度的SiO层、97nm厚度的Ge层、292nm厚度的SiO层、79nm厚度的Ge层、256nm厚度的SiO层、130nm厚度的Ge层、252nm厚度的SiO层、119nm厚度的Ge层、206nm厚度的SiO层、136nm厚度的Ge层、534nm厚度的SiO层。