形成ｐ型扩散层的组成物、ｐ型扩散层的制造方法及太阳电池元件的制造方法;COMPOSITION FOR FORMING P-TYPE DIFFUSION LAYER, METHOD FOR FORMING P-TYPE DIFFUSION LAYER, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOVOLTAIC CELL ELEMENT,申请号TW104101934-传众专利搜索

发明名称	形成ｐ型扩散层的组成物、ｐ型扩散层的制造方法及太阳电池元件的制造方法;COMPOSITION FOR FORMING P-TYPE DIFFUSION LAYER, METHOD FOR FORMING P-TYPE DIFFUSION LAYER, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOVOLTAIC CELL ELEMENT
摘要	一种形成p型扩散层的组成物，其包括含有受体元素且软化温度为300℃~950℃的玻璃粉末、以及分散介质而构成。涂布该形成p型扩散层的组成物并实施热扩散处理，藉此制造p型扩散层、及具有p型扩散层的太阳电池元件。 The composition for forming a p-type diffusion layer contains an acceptor element-containing glass powder which has softening temperature of from 300℃ to 950℃
申请公布号	TW201521092	申请公布日期	2015.06.01
申请号	TW104101934	申请日期	2011.04.22
申请人	日立化成工业股份有限公司 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.	发明人	野尻刚 NOJIRI, TAKESHI;吉田诚人 YOSHIDA, MASATO;冈庭香 OKANIWA, KAORU;町井洋一 MACHII, YOUICHI;岩室光则 IWAMURO, MITSUNORI;足立修一郎 ADACHI, SHUUICHIROU;佐藤铁也 SATO, TETSUYA;木泽桂子 KIZAWA, KEIKO
分类号	H01L21/225(2006.01);H01L31/0216(2014.01);H01L31/18(2006.01)	主分类号	H01L21/225(2006.01)
代理机构		代理人	叶璟宗
主权项
地址	日本 JP