| 发明名称 | 适于光学耦合层的包含表面改性高折射率纳米粒子的组合物 | ||
| 摘要 | 本发明描述一种将光学膜耦合至基底的方法、包含光学膜和设置在所述光学膜的表面层上的光学耦合层的层合的光学构造、以及可用于光学耦合层的涂料组合物。所述涂料组合物包含至少40wt.-％的无机纳米粒子和聚合硅烷表面处理剂，所述无机纳米粒子具有至少1.85的折射率。 | ||
| 申请公布号 | CN104662689A | 申请公布日期 | 2015.05.27 |
| 申请号 | CN201380011419.0 | 申请日期 | 2013.02.11 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 郝恩才;乔纳森·A·阿尼姆-阿多;居伊·D·乔利;谢尔盖·拉曼斯基;詹姆斯·P·迪齐奥 |
| 分类号 | H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/52(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 陈源;崔利梅 |
| 主权项 | 一种耦合光学膜的方法，所述方法包括：提供光学膜；提供基底；将光学耦合层涂敷至所述光学膜的表面层、所述基底、或它们的组合；其中所述光学耦合层包含至少40wt.‑％的无机纳米粒子，所述无机纳米粒子具有至少1.85的折射率，和聚合硅烷表面处理剂；以及将所述光学膜层合到所述基底，从而形成层合的光学构造。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||