| 主权项 |
一种化学机械研磨组成物，系包含下列者作为起始组分：根据式(I)之第一物质
其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6及R7之各者系具有式-(CH2)n-之桥接基团，其中，n系选自1至10之整数，以及其中，该第一物质中的一个或多个氮可呈四级形式提供(其中，该氮承担正电荷)；根据式(II)之第二物质其中，R8、R9、R10、R11及R12之各者系选自氢及具有1至6个碳原子之烷基，其中，R8、R9、R10、R11及R12之两个或更多个可组合为环结构，以及其中，该第二物质中的一个或多个氮可呈四级形式提供(其中，该
氮承担正电荷)；研磨剂；以及水；其中，该化学机械研磨组成物系具有小于7的pH；以及其中，该化学机械研磨组成物系展现0.2至5.0之可调整的氧化矽对氮化矽之移除速率选择性。 |
