DEVICE FOR VACUUM TREATING SUBSTRATES IN A VACUUM COATING SYSTEM AND VACUUM COATING SYSTEM COMPRISING A DEVICE

摘要

Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Vakuumbeschichtung von Substraten in einer Vakuumkammer zeichnet sich aus durch eine Saugeinrichtung (19), die eine oder mehrere Absaugöffnungen (80) für Gase und zumindest eine, mit der oder den mehreren Absaugöffnungen (80) verbundene Pumpen (12, 16) aufweist, wobei die eine oder mehreren Absaugöffnungen (80) einen Wirkungsbereich aufweisen, der sich parallel einer Längsachse (70) der Substratträgereinrichtung (60) mindestens doppelt so weit erstreckt wie in einer Richtung senkrecht dazu. Ferner betrifft die Erfindung eine Vakuumbeschichtungseinrichtung zur Vakuumbeschichtung mittels der Vorrichtung.