发明名称 |
晶体管及其制作方法 |
摘要 |
一种晶体管的制作方法,包括:提供衬底,在衬底上形成第一伪栅和第一侧墙;形成第一沟槽;在第一沟槽中形成第一应力层;去除第一侧墙,在第一伪栅的侧壁形成第二侧墙;在第一应力层上形成第二伪栅;露出第一应力层之间的衬底;在第一应力层之间的衬底中形成第二应力层。本发明还提供一种晶体管,包括衬底、第一应力层、第二应力层、形成于第二应力层的源区或者漏区以及设于衬底上的栅极、侧墙。本发明具有以下优点:通过在作为晶体管源区或者漏区的第二应力层周围形成第一应力层,并使第一应力层的应力方向与第二应力层相反,增加所述晶体管中沟道区域的应力大小,进而提升晶体管的电子迁移率。 |
申请公布号 |
CN104617047A |
申请公布日期 |
2015.05.13 |
申请号 |
CN201310543037.4 |
申请日期 |
2013.11.05 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
张海洋;张城龙 |
分类号 |
H01L21/8238(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L27/092(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/8238(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种晶体管的制作方法,其特征在于,包括:提供衬底,在所述衬底上形成第一伪栅和位于所述第一伪栅侧壁上的第一侧墙;以所述第一侧墙为掩模,分别在所述第一伪栅两侧的衬底中形成第一沟槽;在所述第一伪栅两侧的第一沟槽中分别形成第一应力层;去除所述第一侧墙,并在所述第一伪栅的侧壁形成第二侧墙;在所述第二侧墙露出的所述第一应力层上形成第二伪栅;去除所述第一伪栅,露出所述衬底在第一应力层之间的部分;在所述衬底在第一应力层之间的部分中形成第二应力层,所述第二应力层提供的应力与所述第一应力层提供的应力类型相反;在所述第二应力层中形成源区或者漏区。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |