| 发明名称 | 一种阵列基板及其制作方法和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法和显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的显示器件中的偏振片厚度过大，导致形成的显示器件的厚度过大的问题，实现了显示装置的超薄化设计，同时，可以降低像素电极上的电阻，提高了电荷的迁移率，增强了显示器件的显示效果。该阵列基板包括：衬底基板、形成在所述衬底基板上的像素电极层，还包括：第一线栅偏振膜，其中：所述第一线栅偏振膜设置在所述像素电极层的表面。本发明应用于显示器件制作技术中。 | ||
| 申请公布号 | CN104617114A | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201510082315.X | 申请日期 | 2015.02.15 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 杨添;武延兵;季春燕;李文波 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，所述阵列基板包括：衬底基板、形成在所述衬底基板上的像素电极层，其特征在于，所述像素电极层的表面设置有第一线栅偏振膜；所述像素电极层的表面为所述像素电极层靠近所述衬底基板的一面或远离所述衬底基板的一面。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||