一种无铟透明电极及其制备方法

摘要

本发明属于纳米材料和光电子器件领域，具体地说，本发明涉及一种无铟透明电极，以磁控溅射镀膜仪为薄膜生长手段，通过衬底上初期生长缓冲籽晶层，以超薄高导电率金属膜为导电层，通过减反增透层的设计来达到对透明电极的光学和电学的调制，本发明同时提供了上述无铟透明电极的制备方法。本发明采用多层复合薄膜技术，以高电导率的超薄金属为导电层，通过多层薄膜的界面光学衍射和反射效应，结合合理选择增透膜的材料种类和厚度来提高薄膜的光学透过率，使薄膜的透光性与导电性更好的有机统一。

主权项

一种无铟透明电极，其特征在于：以磁控溅射镀膜仪为薄膜生长手段，通过衬底上初期生长缓冲籽晶层，以超薄高导电率金属膜为导电层，通过减反增透层的设计来达到对透明电极的光学和电学的调制。