发明名称 |
一种高孔隙率及高强度钇硅氧多孔陶瓷的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及多孔陶瓷材料领域,具体为一种通过发泡注凝工艺制备高孔隙率和高强度的钇硅氧多孔陶瓷材料的方法。该方法以氧化钇和氧化硅混合粉末作为原料,水为分散介质,选用聚乙烯亚胺或柠檬酸铵为分散剂,以丙烯酰胺或N-羟甲基丙烯酰胺为单体,再加入交联剂N,N′-亚甲基双丙烯酰胺,搅拌后加入发泡剂十二烷基硫酸钠、起皮抑制剂聚氧化乙烯、催化剂N,N,N′,N′-四甲基乙二胺和引发剂过硫酸铵,接着进行注模凝固。脱模之后先在室温下干燥24~48小时,然后在60~90℃下干燥24~36小时,最后在1500~1550℃下进行1.5~2.5小时的高温反应烧结,最终制备出γ-Y<sub>2</sub>Si<sub>2</sub>O<sub>7</sub>多孔陶瓷。本发明可制备出具有多层次孔结构并且孔隙率可控的高孔隙率(75~85%)和高强度(3~8MPa)的γ-Y<sub>2</sub>Si<sub>2</sub>O<sub>7</sub>多孔陶瓷材料。 |
申请公布号 |
CN103588482B |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201310617437.5 |
申请日期 |
2013.11.28 |
申请人 |
中国科学院金属研究所 |
发明人 |
王京阳;吴贞;孙鲁超 |
分类号 |
C04B35/505(2006.01)I;C04B38/06(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/505(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 |
代理人 |
张志伟 |
主权项 |
一种高孔隙率及高强度钇硅氧多孔陶瓷的制备方法,其特征在于,钇硅氧陶瓷材料为γ‑Y<sub>2</sub>Si<sub>2</sub>O<sub>7</sub>多孔陶瓷,具体步骤如下:1)浆料的配制:按质量份数计,以Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>和SiO<sub>2</sub>摩尔比1:2的混合粉末80~120份、去离子水30~50份、有机单体4~8份、分散剂0.5~1.5份、交联剂N,N '‑亚甲基双丙烯酰胺0.3~0.9份为原料,进行混合,然后搅拌1~4小时,形成浆料;2)按质量份数计,向所述浆料中加入发泡剂十二烷基硫酸钠0.5~1.5份,搅拌进行发泡15~30分钟,接着加入起皮抑制剂0.5~1.5份、催化剂N,N,N ',N '‑四甲基乙二胺2~6份和引发剂过硫酸铵1~5份,搅拌20~60秒后立刻注模,脱模后形成坯体;3)将坯体在室温下干燥24~48小时,然后在烘箱中60~90℃干燥24~36小时,最后在空气中1500~1550℃下进行高温反应烧结,烧除有机物凝胶,便可获得兼具宏观孔和微米孔多层次孔结构的γ‑Y<sub>2</sub>Si<sub>2</sub>O<sub>7</sub>多孔陶瓷材料,强度3~8MPa;γ‑Y<sub>2</sub>Si<sub>2</sub>O<sub>7</sub>多孔陶瓷材料的孔隙率范围为75~85%,宏观孔均匀分布,孔径范围为80~300μm,宏观孔的孔壁具有微米孔,孔径范围为0.1~2μm;Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>和SiO<sub>2</sub>的混合粉末的粒度尺寸范围为0.1~3.5μm。 |
地址 |
110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 |