发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI483341 | 申请公布日期 | 2015.05.01 |
申请号 | TW098118022 | 申请日期 | 2009.06.01 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 伊藤规宏;东岛治郎 |
分类号 | H01L21/683 | 主分类号 | H01L21/683 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种基板处理装置,使基板之板面沿着水平方向,一面旋转该基板一面进行处理,其特征在于包含:平台,具有可旋转之底板,该底板包含朝上方突出的复数之突出构件,该突出构件自下方接触该基板,支持着该基板,而在该基板与该平台之间形成间隙;旋转驱动机构,旋转驱动该底板;压力调节装置,包含:抽吸用管路,其一端朝该间隙开放;与抽吸机构,连结于该抽吸用管路;及控制装置,连接该旋转驱动机构及该压力调节装置;该控制装置于该底板受到旋转驱动时,至少根据藉由该旋转驱动机构所驱动之该底板之旋转速度,控制由该压力调节装置所进行之抽吸;该控制装置,在该底板受到旋转驱动时进行该压力调节装置所进行之抽吸与停止抽吸的切换控制。 | ||
地址 | 日本 |