发明名称 |
微影投影物镜、具此投影物镜之微影投影曝光设备、元件微影制造方法及以此制造方法制造之元件 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI483081 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
申请号 |
TW097118807 |
申请日期 |
2008.05.21 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限公司 |
发明人 |
丹尼尔 克拉梅尔;弗拉迪米尔 卡门诺夫;米夏埃尔 杜茨尔克;阿克斯尔 格内尔迈尔 |
分类号 |
G03F7/20;G02B13/14;G02B17/08 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区 |
主权项 |
一种用于微影视场的投影物镜,用于将一遮罩平面之一影像投影至一视场平面且具有该视场平面中的一曝光视场,其特征在于一附加迷光成份将该曝光视场上的一迷光成份与另一投影物镜的曝光视场上的迷光成份适配,及/或将该曝光视场上的该迷光成份的变化与另一投影物镜的曝光视场上的迷光成份的变化适配;其中该附加迷光成份在该曝光视场上具有一非固定轮廓,其中具有非固定轮廓的该附加迷光成份遵守一预定的该曝光视场上的分布,且其中该预定的该曝光视场上的分布系根据另一投影物镜的测量数据而确定;其中该视场平面中之该曝光视场包含一中央区域及一边界区域,并且其中藉由位于该投影物镜的光瞳平面中的至少一光学元件,在该视场的中央区域中,调整具有非固定轮廓的该附加迷光成份。
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地址 |
德国 |