| 发明名称 | 自支撑介质薄膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种自支撑介质薄膜及其制备方法。包括：提供第一衬底，并在第一衬底上依次形成第一和第二牺牲层；将第一衬底及第一和第二牺牲层置于液体溶剂中，将第一牺牲层溶解，从而使得第二牺牲层与第一衬底分离并悬浮在液体溶剂中；第二牺牲层为自支撑结构且能够以伸展状态悬浮在液体溶剂中；提供表面具有凹入部的第二衬底，并用其将第二牺牲层从液体溶剂中取出，使得第二牺牲层以伸展状态附着在第二衬底上；在第二牺牲层上形成介质薄膜层；至少去除第二牺牲层中与凹入部对应的部分，使得介质薄膜层中与凹入部对应的部分自支撑地覆盖凹入部。该方法工艺稳定、成本低、周期短、效率高且具有高度的灵活性和可操作性。 | ||
| 申请公布号 | CN104555902A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201510004085.5 | 申请日期 | 2015.01.05 |
| 申请人 | 中国科学院物理研究所 | 发明人 | 刘哲;李俊杰;顾长志;夏晓翔;杨海方 |
| 分类号 | B81C1/00(2006.01)I;B81B1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人 | 范晓斌;郭海彬 |
| 主权项 | 一种自支撑介质薄膜的制备方法，包括：提供第一衬底(10)，并在所述第一衬底(10)上依次形成第一牺牲层(20)和第二牺牲层(30)；将所述第一衬底(10)及其上的所述第一牺牲层(20)和所述第二牺牲层(30)置于能够溶解所述第一牺牲层(20)的液体溶剂中，将所述第一牺牲层(20)溶解，从而使得第二牺牲层(30)与所述第一衬底(10)分离并悬浮在所述液体溶剂中；其中，所述第二牺牲层(30)为自支撑结构且能够以伸展状态悬浮在所述液体溶剂中；提供第二衬底(40)，所述第二衬底(40)的表面具有凹入部(41)；用所述第二衬底(40)将所述第二牺牲层(30)从所述液体溶剂中取出，并使得所述第二牺牲层(30)以伸展状态附着在所述第二衬底(40)的所述表面上；在所述第二牺牲层(30)上形成介质薄膜层(50)；以及至少去除所述第二牺牲层(30)中与所述凹入部(41)对应的部分，使得所述介质薄膜层(50)中与所述凹入部(41)对应的部分自支撑地覆盖所述凹入部(41)。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区中关村南三街八号 | ||