| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：无机研磨剂0.1~50wt%、氨羧型螯合剂0.01~5wt%、余量为pH调节剂和水。本发明化学机械抛光液的有益效果为：通过本发明提供的化学机械抛光液可以显著提高抛光速率，其抛光速率是现有技术中化学机械抛光液的至少1.5倍；应用于蓝宝石衬底时衬底材料表面无划痕、粗糙度显著降低；能够实现对蓝宝石材料的高效抛光处理，使得蓝宝石衬底及窗口片能够工业化生产。 | ||
| 申请公布号 | CN104559800A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201410857244.1 | 申请日期 | 2014.12.30 |
| 申请人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明人 | 刘卫丽;侯蕾 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人 | 梁海莲 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：无机研磨剂 0.1～50wt％氨羧型螯合剂 0.01～5wt％余量为pH调节剂和水。 | ||
| 地址 | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 | ||