发明名称 CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, POSITION ADJUSTING METHOD FOR DIAPHRAGM, AND DIAPHRAGM POSITION ADJUSTING JIG
摘要 대기압 또는 대기압과 거의 동등한 압력의 가스 분위기하에서의 관찰을 행하는 하전 입자선 장치에서는, 시료가 재치되는 대기압 공간과 전자 광학 경통 내부의 진공 공간을 격리하는 격막은 전자선을 투과시키기 위해서 매우 얇고, 파손될 가능성이 높다. 격막을 교환할 때에는 격막 위치를 조정할 필요가 생기지만, 종래 기술의 방법으로는, 이 격막 위치의 조정을 용이하게 행할 수는 없었다. 진공 분위기와 대기 분위기 또는 가스 분위기를 구획하는 박막을 채용하는 구성의 하전 입자선 장치에 있어서, 시료가 재치된 공간의 압력이 케이싱 내부의 압력보다 크게 유지되도록 시료가 재치된 공간을 격리하고, 1차 하전 입자선을 투과 또는 통과시키는 착탈 가능한 격막과, 시료가 재치된 공간의 압력과 케이싱 내부의 압력을 유지한 채, 상기 격막을 이동 가능하게 하는 가동 부재를 구비한다.
申请公布号 KR20150046265(A) 申请公布日期 2015.04.29
申请号 KR20157007382 申请日期 2013.09.25
申请人 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 发明人 가와니시 신스케;오미나미 유스케;아지마 마사히코;스즈키 히로유키
分类号 H01J37/16;H01J37/18 主分类号 H01J37/16
代理机构 代理人
主权项
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