抗蚀剂添加剂及包含它的抗蚀剂组合物、形成抗蚀剂图案的方法

摘要

本发明提供一种由下式（1）表示的抗蚀剂添加剂，以及包含该添加剂的抗蚀剂组合物。根据本发明的添加剂在应用到抗蚀剂组合物时通过在曝光中增加抗蚀剂膜的表面疏水性而能够在浸没式光刻工艺过程中抑制由水引起的浸出，并且在应用到抗蚀剂组合物时能够形成具有优异的敏感度和分辨率的精细的抗蚀剂图案：[化学式1]其中各取代基分别具有与上述定义相同的含义。

主权项

由下式(1)表示的抗蚀剂添加剂：[化学式1]其中在式(1)中，R’、R”和R”’选自氢原子；R₁和R₂各自独立地表示氢原子；R₃表示选自氢原子和下式(3)表示的官能团的基团：[化学式3]其中在式(3)中，R₃₁表示选自C₁‑C₂₀卤代烷基的疏水基团，p表示1；R₃₂表示选自C₁‑C₂₀亚烷基；R₃₃表示选自的酸不稳定性基团，其中R_a、R_b、R_c各自独立地表示选自C₁‑C₂₀烷基；R₄表示选自C₁‑C₂₀卤代烷基的疏水性基团；R₅表示选自C₂‑C₃₀杂环基团的基团；l、m、n和o分别表示主链中相应的重复单元的比例，以使l+m+n+o＝1，同时0<l/(l+m+n+o)<0.9，0.2<m/(l+m+n+o)<0.9，0≤n/(l+m+n+o)<0.9和0≤o/(l+m+n+o)<0.9，条件是当R₃表示氢原子时，n不是0；和p表示1的整数。