发明名称 用于蒸镀的掩膜板及其制作方法
摘要 本发明公开一种用于蒸镀的掩膜板的制作方法,包括如下步骤:在金属膜的第一表面开第一盲孔;在所述金属膜的第二表面开第二盲孔;所述第一盲孔和第二盲孔错位重叠、并在重合处贯通所述金属膜、在未重合处均未贯穿所述金属膜;所述第一盲孔和第二盲孔重合贯通处对应于所述掩膜板上的一个像素蒸镀孔;所述金属膜的厚度为10~60微米。上述掩膜板的制作方法,使第一盲孔和第二盲孔错位重叠,重合处贯通金属膜形成像素蒸镀孔,能够有效地将开孔的孔径缩小。
申请公布号 CN104561896A 申请公布日期 2015.04.29
申请号 CN201410851534.5 申请日期 2014.12.31
申请人 昆山国显光电有限公司 发明人 陈红;彭兆基;金波
分类号 C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 唐清凯
主权项 一种用于蒸镀的掩膜板的制作方法,包括如下步骤:在金属膜的第一表面涂覆光刻胶;利用具有开孔图案的光刻版对所述光刻胶进行曝光并显影、去除开孔处的光刻胶;以剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第一盲孔;在金属膜的第二表面涂覆光刻胶;利用具有开孔图案的光刻版对第二表面的光刻胶进行曝光并显影、去除开孔处的光刻胶;以第二表面剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第二盲孔;所述第一盲孔和第二盲孔错位重叠,所述第一盲孔和第二盲孔重合形成像素蒸镀孔贯通该掩膜板;所述金属膜的厚度为10~60微米。
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