| 发明名称 | 高精细金属图案的形成方法、高精细金属图案及电子构件 | ||
| 摘要 | 本发明提供利用印刷工艺与镀敷工艺的复合技术形成图案剖面形状优异的高精细金属图案的方法，并且提供通过对以镀核图案为代表的层叠体的各界面赋予优异的密合性而能够适合用作高精度的电子构件的高精细金属图案及其制造方法。本发明提供高精细金属图案形成方法、利用该方法得到的高精细金属图案及包含该高精细金属图案的电子构件，其中，所述高精细金属图案形成方法包括：(1)在基板上涂布包含重均分子量为5千以上的聚氨酯树脂或乙烯基树脂、和介质的树脂组合物而形成受理层的工序；(2)利用凸版反转印刷法印刷含有成为镀核的粒子的墨液，在受理层上形成镀核图案的工序；(3)利用非电解镀使金属向所形成的镀核图案上析出的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN104583455A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201480002136.4 | 申请日期 | 2014.03.06 |
| 申请人 | DIC株式会社 | 发明人 | 义原直;胜田晴彦;片山嘉则;白发润;村川昭;富士川亘;齐藤公惠 |
| 分类号 | C23C18/30(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种高精细金属图案形成方法，其包括：(1)在基板上涂布包含重均分子量为5千以上的聚氨酯树脂(a1)或乙烯基树脂(a2)、和介质(a3)的树脂组合物(a)而形成受理层(A)的工序；(2)利用凸版反转印刷法印刷含有成为镀核的粒子(b1)的墨液(b)，在受理层(A)上形成镀核图案(B)的工序；和(3)利用非电解镀使金属向工序(2)中形成的镀核图案(B)上析出的工序。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||