发明名称 |
缺陷检查装置以及缺陷检查方法 |
摘要 |
在缺陷检查装置(1)中,处理图像生成部(61)通过以预定算法来对通过摄像装置(5)生成的二维图像数据进行处理,从而对构成二维图像数据的各个像素的特征量进行计算。该处理图像生成部(61)在二维图像数据中,将预定阈值以上的像素提取为缺陷像素。并且,处理图像生成部(61)生成针对缺陷像素赋予与所述特征量相对应的灰度值、针对缺陷像素以外的剩余像素赋予零灰度值的处理图像数据。解析用图像生成部(62)基于所述处理图像数据,生成由1个或者多个一维图像数据构成的解析用图像数据。 |
申请公布号 |
CN104583761A |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201380044740.9 |
申请日期 |
2013.08.22 |
申请人 |
住友化学株式会社 |
发明人 |
尾崎麻耶 |
分类号 |
G01N21/892(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I;G01B11/30(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/892(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
齐秀凤 |
主权项 |
一种缺陷检查装置,具备:输送部,其输送片状成形体;照射部,其对被输送的所述片状成形体照射光;摄像部,其拍摄被输送的所述片状成形体,并生成基于被照射到片状成形体的光的反射光或者透射光的二维图像数据;特征量计算部,其通过预定的算法处理,来对构成所述二维图像数据的各个像素的基于亮度值的特征量进行计算;处理图像数据生成部,其将构成所述二维图像数据的各个像素区别为基于所述亮度值的特征量为预定的阈值以上的像素即缺陷像素、和基于所述亮度值的特征量小于所述阈值的像素即剩余像素,生成针对所述缺陷像素赋予与基于所述亮度值的特征量相对应的灰度值、针对所述剩余像素赋予零灰度值的处理图像数据;解析用图像数据生成部,其基于所述处理图像数据,至少生成一个由1个或者多个一维图像数据构成的解析用图像数据群;和图像解析部,其基于通过所述解析用图像数据生成部生成的所述解析用图像数据群来进行图像解析,并对所述片状成形体的缺陷进行检测。 |
地址 |
日本国东京都 |