基板ホルダ装置および真空処理装置

摘要

基板ホルダ装置は、チャンバの中の減圧された処理空間において基板を保持することが可能な基板ホルダと、基板ホルダに連結された支柱と、支柱を回転可能に支持する第１の回転支持部と、第１の回転支持部が支柱を支持する位置から支柱の軸方向に離間した位置で支柱を回転可能に支持する第２の回転支持部と、第１および第２の回転支持部を支持する筐体と、支柱と筐体とを電気的に接続する導電性部材と、を備える。