| 发明名称 | 晶圆刻蚀装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种晶圆刻蚀装置，包括：载体，所述载体具有多个可承载晶圆的卡槽，所述晶圆可在所述卡槽内转动；位于所述载体以及所述晶圆底部的传动装置，所述传动装置带动所述晶圆匀速转动，使所述晶圆与所述载体内的刻蚀溶液均匀反应。由于传动装置能够带动晶圆匀速转动，因此，就相当于将晶圆放置在流动的刻蚀溶液中，这样与晶圆反应后的废弃溶液就能够及时流动更新，从而提高了生产效率，缩短了生产周期；并且，由于晶圆与刻蚀溶液相对匀速运动，因此，晶圆各个区域的反应速度趋于一致，从而达到保证晶圆沟槽刻蚀均匀性的目的。 | ||
| 申请公布号 | CN204289403U | 申请公布日期 | 2015.04.22 |
| 申请号 | CN201420556400.6 | 申请日期 | 2014.09.25 |
| 申请人 | 安徽安芯电子科技有限公司 | 发明人 | 汪良恩;汪曦凌 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 王宝筠 |
| 主权项 | 一种晶圆刻蚀装置，其特征在于，包括：载体，所述载体具有多个可承载晶圆的卡槽，所述晶圆可在所述卡槽内转动；位于所述载体以及所述晶圆底部的传动装置，所述传动装置带动所述晶圆匀速转动，使所述晶圆与所述载体内的刻蚀溶液均匀反应。 | ||
| 地址 | 247000 安徽省池州市经济技术开发区金光大道88号富安电子信息产业园10号 | ||