反射型光罩基底、反射型光罩基底之制造方法、反射型光罩及半导体装置之制造方法

摘要

本发明提供一种反射型光罩基底，其于使用有高感度之缺陷检查装置之缺陷检查中，抑制因基板或膜之表面粗糙度所引起之疑似缺陷检出，从而可容易地发现异物或损伤等致命缺陷。;本发明之反射型光罩基底之特征在于：其系于光罩基底用基板之主面上具有光罩基底用多层膜，该光罩基底用多层膜包含交替地积层有高折射率层与低折射率层之多层反射膜及吸收体膜者，且于形成有上述光罩基底用多层膜之上述反射型光罩基底表面上之3μm×3μm之区域内，利用原子力显微镜测定所得之均方根粗糙度(Rms)为0.5nm以下，且空间频率1~10μm -1 之功率谱密度为50nm 4 以下。