发明名称 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
摘要 <p>투영 광학계 (PL) 와 기판 (W) 사이에 액침 영역 (AR2) 을 형성하고, 액침 영역 (AR2) 을 형성하는 액체 (L) 와 투영 광학계 (PL) 를 개재하여 패턴 (PA) 이미지를 기판 (W) 상에 투영하여, 기판 (W) 을 노광하는 노광 장치 (EX) 에 있어서, 기판 (W) 상에 액체 (L) 를 공급하는 액체 공급부 (15) 와, 액체 (L) 를 액체 공급부 (15) 로 유도하는 제 1 배관부 (14a) 와, 제 1 배관부 (14a) 와 액체 공급부 (15) 에 연결하고, 제 1 배관부 (14a) 에서 액체 공급부 (15) 로 공급되지 않은 액체 (L) 를 회수하는 제 2 배관부 (14b) 를 갖는다. 이러한 구성에 의해, 액침식 노광 장치에 있어서, 투영 광학계와 기판 사이에 공급되는 액체의 온도 변화를 억제하면서, 오염 물질의 침입 등을 회피할 수 있는 액체 공급 기구를 구비한 노광 장치, 노광 방법, 디바이스의 제조 방법을 제공할 수 있다.</p>
申请公布号 KR20150039869(A) 申请公布日期 2015.04.13
申请号 KR20157007453 申请日期 2004.10.21
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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