多模式薄膜沉积设备以及薄膜沉积方法

主权项

一种多模式薄膜沉积设备，包括：一反应腔室，具有一第一开口及一第二开口，该第一开口与该第二开口系为同一轴向，以贯穿该反应腔室；一承载座，适于承载一基板，该承载座设置于该反应腔室中；一第一进气系统，适于提供一第一薄膜沉积模式时所需的一第一制程气体，该第一进气系统系连接于该第一开口；一气体喷洒头，具有一气体混合室与多个气孔，其中该些气孔位于该气体混合室的一侧，且该些气孔系朝向该承载座，该气体混合室藉由该些气孔而与该反应腔室连通；一惰性气体供应源，系连接于该气体喷洒头的该气体混合室，适于提供不与该第一制程气体反应的一惰性气体；以及一第二进气系统，适于提供一第二薄膜沉积模式时所需的一第二制程气体，该第二进气系统系连接于该气体喷洒头的该气体混合室。