| 摘要 |
1. Установка (M) для поверхностной обработки цилиндра (C), отличающаяся тем, что она содержит первую рабочую станцию (МА) для поддержания указанного цилиндра (C) и приведения его во вращение вокруг его собственной продольной оси (X) и по меньшей мере одну вторую рабочую станцию (MB), взаимодействующую с первой рабочей станцией (МА) для создания и испускания с помощью оптоволоконного устройства импульсного лазерного излучения, случайным образом соударяющегося с поверхностью (S) цилиндра (C) и создающего требуемую шероховатость на этой поверхности (S), причем вторая станция (MB) соединена с возможностью регулирования с первой станцией (МА) в первом направлении (K), параллельном оси (X) цилиндра (C), и на ней расположены одна или более головок (8), испускающих импульсное лазерное излучение, при этом она смонтирована с возможностью скольжения относительно цилиндра (C) во втором направлении (Z), перпендикулярном указанной оси (X).2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что указанные одна или более головок (8) выполнены с возможностью перемещения в третьем направлении (W), параллельном указанным первому направлению (K) и цилиндру (C).3. Установка по п.2, отличающаяся тем, что указанная вторая станция (MB) содержит головки (8), излучающие последовательности лазерных импульсов, средства (6, 7, 9, 10, 11, 12, 13) для поддержания и регулирования положения указанных излучающих головок (8) относительно поверхности (S) цилиндра (C) в указанных направлениях (W, Z) и средства (МОТ2, 5) перемещения указанных поддерживающих и регулирующих средств (6, 7, 9, 10, 11, 12, 13) головок (8) в указанном первом направлении (K), параллельном оси (X) цилиндра (C).4. Установка по п.3, отличающаяся тем, что п� |
