| 发明名称 |
NEW ANTIOXIDANTS FOR POST-CMP CLEANING FORMULATIONS |
| 摘要 |
본 발명은 위에 화학 기계적 연마(CMP)후 잔류물 및 오염물을 갖는 마이크로전자 장치로부터 상기 CMP후 잔류물 및 오염물을 세정하기 위한 세정 조성물 및 방법에 관한 것이다. 그 조성물은 저-k 유전체 물질 또는 구리 인터커넥트 물질을 손상시키는 일 없이 마이크로전자 장치의 표면으로부터 CMP후 잔류물 및 오염물의 효과적인 세정을 고도로 달성한다. |
| 申请公布号 |
KR20150038691(A) |
申请公布日期 |
2015.04.08 |
| 申请号 |
KR20157006874 |
申请日期 |
2008.05.16 |
| 申请人 |
인티그리스, 인코포레이티드 |
发明人 |
장 펑;바네스 제프리;손탈리아 프레르나;쿠퍼, 엠마누엘;보그스 칼 |
| 分类号 |
C11D3/00;C11D3/30;C11D7/26;C11D7/32;C11D11/00;C23G1/18;C23G1/26;H01L21/02;H01L31/18 |
主分类号 |
C11D3/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
