发明名称 COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD
摘要 <p>본 발명은, 하기 화학식 (I)로 표시되는 블록 및 하기 화학식 (II)로 표시되는 블록을 포함하는 블록 공중합체를 함유하는 패턴 형성용 조성물이다. 하기 화학식 (I) 및 (II) 중, R및 R은 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기이다. R는 1가의 유기기이다. R는 탄소수 1 내지 5의 (1+b)가의 탄화수소기이다. R는 헤테로 원자를 갖는 1가의 기이다. m 및 n은 각각 독립적으로 10 내지 5,000의 정수이다. a는 0 내지 5의 정수이다. b는 1 내지 3의 정수이다.</p>
申请公布号 KR20150036130(A) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20157001452 申请日期 2013.06.25
申请人 发明人
分类号 C08F297/02;C08L53/00;G03F7/40;H01L21/033 主分类号 C08F297/02
代理机构 代理人
主权项
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