SYMMETRICAL INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE WITH SYMMETRICAL FLOW CHAMBER
摘要
<p>플라즈마 반응기는 대칭적 RF 피드들(feeds)을 갖는 다수의 오버헤드 코일 유도성 플라즈마 소스, 및 대칭적 챔버 배출부를 가지며, 대칭적 챔버 배출부는 제한된(confined) 워크피스 지지부에 대한 액세스를 제공하는, 배출 영역을 통과하는 복수의 스트럿들을 갖는다. 프로세싱 영역으로부터의 스트럿들의 공간적 영향들(spatial effects)을 마스킹하기 위한 그리드가 포함될 수 있다.</p>
