发明名称 一种烃类物质常温常压光磁催化重整的工艺与装置
摘要 本发明是一种烃类物质常温常压光磁催化重整装置及工艺,所述装置由反应器和控制器构成,所述反应器为一个包含封闭腔体和外部结构的组合体,使用金属或塑料加工制造;在其封闭腔体内组合安装辐照光源(1)、光触媒(2)、光触媒载体及支架(3)、分子裂解磁驱动器(4),物料进口(8)和物料出口(9);控制器主要包括装置启动/停止控制电路、辐照光源激励控制电路、除污动力驱动控制电路、分子裂解磁驱动器激励控制电路。本发明解决了在常温常压下触发裂解反应能量输入的难题,可解决产成物组分控制,解决催化剂(光触媒)毒化老化的问题。本发明可调节参数适应不同的处理原料和产出目标,具有广泛的适应能力和推广价值。
申请公布号 CN104498088A 申请公布日期 2015.04.08
申请号 CN201410777609.X 申请日期 2014.12.17
申请人 北京市石景山区率动环境科学研究中心 发明人 杨德利;孙涤清;王晓军
分类号 C10G55/06(2006.01)I 主分类号 C10G55/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种烃类物质常温常压光磁催化重整装置,其特征在于,所述装置由反应器和控制器构成,反应器和控制器为一体安装或分体安装,所述反应器为一个包含封闭腔体和外部结构的组合体,使用金属或塑料加工制造;在其封闭腔体内组合安装辐照光源(1)、光触媒(2)、光触媒载体及支架(3)、分子裂解磁驱动器(4),物料进口(8)和物料出口(9);控制器主要包括四大功能电子学部件:装置启动/停止控制电路、辐照光源激励控制电路、除污动力驱动控制电路、分子裂解磁驱动器激励控制电路。
地址 100041 北京市石景山区古城西街19号研发生产楼E座南楼2层206室