发明名称 半导体装置
摘要 本实施形态之半导体装置具备:半导体基板;第1接触插塞,其上端部之直径尺寸大于下端部之直径尺寸;第1绝缘膜,其覆盖第1接触插塞;第2接触插塞,其下端部接合于第1接触插塞之上端部,且上端部之直径尺寸小于下端部之直径尺寸;第2绝缘膜,其覆盖第2接触插塞;配线层,其于下端部接合有第2接触插塞之上端部;第3绝缘膜,其覆盖配线层;及阶差,其形成于第1接触插塞之上端部中之未由第2接触插塞之下端部覆盖之部分。
申请公布号 TW201513282 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW103106879 申请日期 2014.02.27
申请人 东芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 兼子元 KANEKO, HAJIME;岛田庆一 SHIMADA, KEIICHI;臼井孝公 USUI, TAKAMASA
分类号 H01L23/48(2006.01);H01L23/52(2006.01) 主分类号 H01L23/48(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本 JP