| 发明名称 | 含倍半萜的成膜树脂及其正性干法曝光193nm光刻胶 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种含倍半萜的成膜树脂及由它配制成的用于干法曝光的正性193nm光刻胶；其成膜树脂的分子量为4,000～5,000,000，分子量分布为1.4～2.4；成膜树脂由共聚合反应合成；共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物：含天然产物倍半萜的组成单元10%～60%；含酸敏基团单体5%～40%；其它性能调节组分单体1%~20%；含倍半萜单元是指符合化学通式（<img file="7535dest_path_image002.GIF" wi="15" he="42" />）的至少一种倍半萜醇的（甲基）丙烯酸酯类化合物；所述含酸敏基团单体是符合化学通式（<img file="674139dest_path_image004.GIF" wi="21" he="42" />）式和（<img file="939904dest_path_image006.GIF" wi="21" he="42" />）中的至少一种化合物。本发明在成膜树脂中引入了含天然产物倍半萜(甲基)丙烯酸酯单元形成一类新的成膜树脂；这种新的成膜树脂配制成的用于干法曝光的正性193nm光刻胶除具有很高的分辨率外，还可增加光刻胶与硅片之间的粘结性能和光刻胶的耐刻蚀性能。 | ||
| 申请公布号 | CN104448114A | 申请公布日期 | 2015.03.25 |
| 申请号 | CN201410684279.X | 申请日期 | 2014.11.25 |
| 申请人 | 昆山西迪光电材料有限公司 | 发明人 | 冉瑞成;沈吉;孙友松;潘新刚 |
| 分类号 | C08F220/18(2006.01)I;C08F220/32(2006.01)I;C08F220/28(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I | 主分类号 | C08F220/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人 | 马明渡;王健 |
| 主权项 | 一种含倍半萜的成膜树脂，所述成膜树脂由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，在溶剂中进行共聚反应制备而成，其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4,000～5,000,000，分子量分布为1.4～2.4；所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物：含天然产物倍半萜的组成单元 10%～60%；含酸敏基团单体 5%～40%；其它性能调节组分单体 1% ~ 20%；所述含天然产物倍半萜的组成单元是指符合化学通式（<img file="933132dest_path_image001.GIF" wi="11" he="21" />）的至少一种倍半萜醇的（甲基）丙烯酸酯类化合物：<img file="521982dest_path_image002.GIF" wi="252" he="67" />（II）； 化学通式（<img file="765882dest_path_image001.GIF" wi="11" he="21" />）中常见的倍半萜基的醇（R‑OH）如下表所示：<img file="345768dest_path_image003.GIF" wi="451" he="444" /> <img file="543793dest_path_image004.GIF" wi="451" he="162" />所述含酸敏基团单体是符合化学通式（<img file="234538dest_path_image005.GIF" wi="15" he="21" />）中的至少一种化合物：<img file="598523dest_path_image006.GIF" wi="288" he="71" />（<img file="865423dest_path_image005.GIF" wi="15" he="21" />）； | ||
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