| 主权项 |
一种基板处理装置，包含：(1)基板送入区块，具有：容器载置部，载置收纳基板之基板收纳容器；及传递机构，对载置于该容器载置部之基板收纳容器进行基板之传递；(2)第1处理区块，系邻接于该基板送入区块而设置，并包含用来处理自该基板送入区块接收之基板之第1处理单元列与第2处理单元列，该第1处理区块具有专用以沿直线运送路在该第1处理区块中运送基板的第1基板运送机构，并且该第1处理单元列与该第2处理单元列分别由各自利用处理流体进行同一处理的复数之处理单元所构成，其中该第1处理单元列与该第2处理单元列分别在水平方向上设于该第1基板运送机构两侧，以藉由该第1基板运送机构将基板传递至该第1处理单元列与该第2处理单元列的该复数之处理单元；(3)第2处理区块，系邻接于该第1处理区块而设置，并包含用来处理自该基板送入区块接收之基板的第3处理单元列与第4处理单元列，该第2处理区块具有专用以沿直线运送路在该第2处理区块中运送基板的第2基板运送机构，并且该第3处理单元列与该第4处理单元列分别由各自进行与对应之该第1处理区块的该复数之处理单元相同之处理的复数之处理单元所构成，其中该第3处理单元列与该第4处理单元列分别在水平方向上设于该第2基板运送机构两侧，以藉由该第2基板运送机构将基板传递至该第3处理单元列与该第4处理单元列的该复数之处理单元；(4)第1处理流体供给系，相对于该第1处理区块的该第1处理单元列与该第2处理区块的该第3处理单元列而共通设置；(5)第2处理流体供给系，与该第1处理流体供给系分开设置，并且相对于该第1处理区块的该第2处理单元列与该第2处理区
块的该第4处理单元列而共通设置；及(6)控制部，被程式化成当该第1基板运送机构发生故障时使用该第2处理区块处理基板，以及当该第2基板运送机构发生故障时使用该第1处理区块处理基板，以及其中，该控制部被进一步程式化成当该第1处理流体供给系发生故障时，使用该第1处理区块的该第2处理单元列以及该第2处理区块的该第4处理单元列处理基板，以及当该第2处理流体供给系发生故障时，使用该第1处理区块的该第1处理单元列以及该第2处理区块的该第3处理单元列处理基板，以及该第1处理流体供给系具有分别容纳不同处理流体的复数之区间，以及该第2处理流体供给系具有与该第1处理流体供给系相同数量之区间，该第2处理流体供给系的区间各自容纳有该第1处理流体供给系之区间中所容纳的相同处理流体。
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