平坦および湾曲する基板上のフォトニック素子およびその製造方法

摘要

高品質の一次元フォトニックバンドギャップ材料を製造するための多用途で迅速なゾルゲル方法。例えば、シリカ／チタニア複層材料が、ディップコーティングと組み合わされるゾルゲルケミストリ経路により、平坦または湾曲する基板上に製造され得る。薄膜熱処理プロセスの直後に衝撃冷却ステップが導入される。このステップは、膜クラックが形成されるのを防止すること、特には、多数の層を有するシリカ／チタニアの交互のスタック材料で膜クラックが形成されるのを防止することにおいて重要であることが分かっている。析出される薄膜の交互層の数および順番、膜厚さおよび効果的な屈折率を個別に調節することにより精密に調整される光学特性を有する種々のブラッグスタックタイプの材料を製造することにより、このゾルゲル方法に多用途性が実証される。測定された光学特性により理論的シミュレーションに良好に一致することが示され、それによりこれらのゾルゲルで製造された光学材料が高品質であることが確認される。【選択図】図１