发明名称 |
经改善润湿性之表面改质处理之构造体及印刷用孔版、与制造彼等之方法;STRUCTURE AND STENCIL PRINTING PLATE SUBJECTED TO SURFACE MODIFICATION PROCESS FOR BETTER WETTABILITY AND METHOD OF PRODUCING THE SAME |
摘要 |
本发明之一实施形态之构造体系提高用于网版印刷之构造体之刮墨面之润湿性,或者密接良好地形成拨水/拨油层。该构造体包含具有复数个贯通口(网眼)之作为基材之筛网、形成于该筛网上且具有印刷图案开口部之乳剂层、及形成于形成有该乳剂层之筛网之印刷基板面且具有拨水性之拨水层,并且对形成有乳剂层之筛网之刮墨面实施有改善润湿性之表面改质处理。 |
申请公布号 |
TW201510666 |
申请公布日期 |
2015.03.16 |
申请号 |
TW103117708 |
申请日期 |
2014.05.20 |
申请人 |
太阳化学工业股份有限公司 TAIYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. |
发明人 |
涩泽邦彦 SHIBUSAWA, KUNIHIKO |
分类号 |
G03F7/12(2006.01);B41C1/14(2006.01);B41N1/24(2006.01);H05K3/12(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/12(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |