ＥＵＶマイクロリソグラフィ用投影レンズ、フィルム素子及びフィルム素子を備える投影レンズの製造方法

摘要

極端紫外線領域（EUV）からの作動波長λを有する電磁放射により、投影レンズの物体面（OS）に配置されたパターンを投影レンズの像面（IS）に結像する投影レンズ（PO）である。投影ビーム路で物体面と像面との間に配置されたミラー表面を有する多数のミラー（M1-M6）を有し、このミラーにより、物体面に配置されたパターンを像面に結像可能である。割り当てられた波面修正装置（WFC）は、波面修正装置の作動モードにおける投影ビーム路に配置され、作動波長λにおいて、光学的使用領域に衝突するEUV線の主たる部分を伝導するフィルムを有するフィルム素子を備える。フィルム素子は第１層を備える。第１層は、第１複素屈折率n1= (1-δ1) + i&bgr;1を有する第１層材料からなり、第１光学層厚を有し、第１光学層厚は使用領域全体に亘って、第１層厚プロフィールに従って局所的に変化する。フィルム素子は第２層を備える。第２層は、第２複素屈折率n2= (1-δ2) + i&bgr;2を有する第２層材料からなり、第２光学層厚を有し、第２光学層厚は前記使用領域全体に亘って、第２層厚プロフィールに従って局所的に変化する。第１層厚プロフィールと第２層厚プロフィールは異なる。第１屈折率の実部の１からの逸脱δ1が、第１層材料の吸収係数&bgr;1に対して大きく、第２屈折率の実部の１からの逸脱δ2が、第２層材料の吸収係数&bgr;2に対して小さい。【選択図】図１