发明名称 高折射率透明性薄膜之制造方法及以该方法制造之薄膜
摘要 本发明提供一种可以短时间容易地制造具有较高折射率及较高透明性且经图案化之薄膜之制造方法、及以该方法制造之高折射率薄膜。;本发明之薄膜之制造方法包含第一步骤:利用经下述式(1)所表示之磷化合物改质之含金属氧化物之溶胶于基板上形成涂膜之步骤、;(式(1)中,R 1 为氢原子、烷基、炔基、烯基、芳基、脂肪族杂环基、或芳香族杂环基,R 2 为二价之有机残基,n为1或2);第二步骤:对第一步骤所获得之基板上之涂膜照射光而使其硬化之步骤、及第三步骤:对第二步骤所获得之硬化物进而藉由加热及/或光之照射施加能量之步骤。
申请公布号 TW201510002 申请公布日期 2015.03.16
申请号 TW103129401 申请日期 2014.08.26
申请人 地方独立行政法人大阪市立工业研究所 OSAKA MUNICIPAL TECHNICAL RESEARCH INSTITUTE 发明人 松川公洋 MATSUKAWA, KIMIHIRO;渡濑星儿 WATASE, SEIJI;御田村紘志 MITAMURA, KOJI;平田学 HIRATA, MANABU
分类号 C08G79/00(2006.01);C08L85/00(2006.01);C08J5/18(2006.01);C08K5/51(2006.01) 主分类号 C08G79/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本 JP;