| 发明名称 | 电极密度及电极孔隙率的测定方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及利用X射线衍射(X-ray diffraction)的电极密度及电极孔隙率的测定方法。根据本发明的电极密度及电极孔隙率的测定方法，由于利用X射线衍射(X-ray diffraction)，因而能够以非破坏性的方式有效地测定电极密度及孔隙率。 | ||
| 申请公布号 | CN104395741A | 申请公布日期 | 2015.03.04 |
| 申请号 | CN201480001651.0 | 申请日期 | 2014.04.29 |
| 申请人 | 株式会社LG化学 | 发明人 | 金银卿;申善英;金帝映;禹相昱 |
| 分类号 | G01N23/20(2006.01)I;H01M4/00(2006.01)I | 主分类号 | G01N23/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 金龙河;穆德骏 |
| 主权项 | 一种电极密度的测定方法，包括：通过X射线衍射求得用于计算密度的电极活性物质的I<sub>平行方向峰值</sub>/I<sub>垂直方向峰值</sub>值的步骤；和根据预先求得的电极密度及电极活性物质的I<sub>平行方向峰值</sub>/I<sub>垂直方向峰值</sub>值之间的预先取得的相关关系式，算出所要求得的电极密度的步骤。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||