发明名称 |
用于制造多层构件的方法以及多层构件 |
摘要 |
本文给出了一种用于制造多层构件(21)的方法,其中,主体(1,81)具有上下相叠布置的介电层(3)以及在它们之间布置的第一导电层和第二导电层(4,84,5,85)。第一导电层(4,84)与第一辅助电极(6)连接并且第二导电层(5,85)与第二辅助电极(7)连接。主体(1,81)被引入介质中并且在第一辅助电极和第二辅助电极(6,7)之间施加电压以便产生材料移除。此外,给出多层构件,所述多层构件具有通过以电化学控制方式的材料转移构成的凹陷(20)。 |
申请公布号 |
CN104380404A |
申请公布日期 |
2015.02.25 |
申请号 |
CN201380030968.2 |
申请日期 |
2013.06.06 |
申请人 |
埃普科斯股份有限公司 |
发明人 |
F.林纳;D.佐米奇;C.奥尔;G.富克斯 |
分类号 |
H01G4/30(2006.01)I;H01C1/14(2006.01)I;H01C7/18(2006.01)I;H01G4/012(2006.01)I;H01L41/047(2006.01)I;H01L41/083(2006.01)I;H01L41/29(2006.01)I;H01C17/00(2006.01)I;H01C17/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01G4/30(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
朱君;刘春元 |
主权项 |
一种用于制造多层构件的方法,具有步骤:A) 提供主体(1,81),其具有上下相叠布置的介电层(3)以及在所述介电层(3)之间布置的第一导电层和第二导电层(4,84,5,85),其中第一导电层(4,84)与第一辅助电极(6)连接并且第二导电层(5,85)与第二辅助电极(7)连接,B) 将至少一部分所述主体(1,81)引入到介质中并且在第一辅助电极和第二辅助电极(6,7)之间施加电压以用于产生来自第一导电层和第二导电层(4,84,5,85)中至少一个导电层的材料移除。 |
地址 |
德国慕尼黑 |