发明名称 LED搭载用晶片及其制造方法、以及使用该晶片的LED搭载结构体
摘要 本发明提供与LED在线性热膨胀系数上的差异小且导热性优异的LED搭载用晶片、该LED搭载用晶片的制造方法、以及使用该LED搭载用晶片制造的LED搭载结构体。优选LED搭载用晶片(6)是由金属浸渗陶瓷复合体(61)以及在其周围形成的保护层(62)构成,金属浸渗陶瓷复合体(61)在表面具有金属薄层(63)。一种晶片的制造方法,其特征在于,在金属制或陶瓷制的管状体的内部填充选自陶瓷多孔体、陶瓷粉末成形体及陶瓷粉末中的至少一者,之后,使选自这些陶瓷多孔体、陶瓷粉末成形体及陶瓷粉末中的至少一者所具有的空隙部浸渗金属,然后进行加工。
申请公布号 CN102484188B 申请公布日期 2015.02.18
申请号 CN201080034961.4 申请日期 2010.07.29
申请人 电气化学工业株式会社 发明人 广津留秀树;石原庸介;塚本秀雄
分类号 H01L33/48(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L33/64(2006.01)I 主分类号 H01L33/48(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 张鑫
主权项 一种LED搭载用晶片(6),其特征在于,由金属浸渗陶瓷复合体(61)及在其周围形成的保护层(62)构成,金属浸渗陶瓷复合体是使含有选自碳化硅、氮化铝、氮化硅、金刚石及石墨中的一种以上且气孔率为10‑50体积%的多孔体或粉末成形体中浸渗金属而制造的,板厚为0.05‑0.5mm,表面粗糙度Ra为0.01‑0.5μm,三点弯曲强度为50MPa以上,温度25℃的热导率为150‑500W/mK,温度25℃‑150℃的线性热膨胀系数为4‑9×10<sup>‑6</sup>/K,体积电阻率为10<sup>‑9</sup>‑10<sup>‑5</sup>Ω·m,保护层是由选自Ni、Co、Pd、Cu、Ag、Au、Pt、Ti、W及Mo中的一种以上的金属、或者是由气孔率为3%以下的选自氧化铝、富铝红柱石、氮化铝及氮化硅中的一种以上的陶瓷构成,保护层的厚度大于0且为3mm以下,保护层的体积占有率大于0且为20体积%以下。
地址 日本东京