用于基板清洗及乾燥之方法及设备;METHOD AND APPARATUS FOR SUBSTRATE RINSING AND DRYING

摘要

本文揭露之方法及设备系用于在半导体制造中最佳化清洗及乾燥制程。如此的最佳化系为了最大化制程产量并同时保持低缺陷数及高元件良率，并利用模拟及实验数据来设定用于清洗及乾燥制程的最佳制程参数。本文亦揭露清洗液及冲洗气体喷嘴移动的改良方法。