结晶性矽晶圆之组织浸蚀液组成物及组织浸蚀方法;TEXTURE ETCHING SOLUTION COMPOSITION AND TEXTURE ETCHING METHOD OF CRYSTALLINE SILICON WAFERS

摘要

本发明系关于一种结晶性矽晶圆之组织浸蚀液组成物及组织浸蚀方法。;本发明含有硷性化合物与聚合度为1,000以下之水溶性葡聚醣系化合物，藉由含有将经碳数1~3之烷基羧基或其金属盐取代之葡萄糖进行聚合，且上述羧基或其金属盐之总取代度为0.5~1.2的水溶性葡聚醣系化合物，而在结晶性矽晶圆之表面形成细微锥形构造，利用控制相对于矽结晶方向之浸蚀速度之差，防止由硷性化合物引起之过量浸蚀，藉此可将位置不同组织之品质偏差最小化而使光效率增加。