| 发明名称 | 用于光电子器件的具有改善的光学性能的肌理化玻璃基材 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于光电子器件的具有改善的光学性能的玻璃基材，使得所述基材通过化学侵蚀在其面至少之一上由一组几何图案完全地或者部分地肌理化，使得图案的平均高度R<sub>z</sub>与两个相邻图案的顶点相隔的平均距离R<sub>Sm</sub>的一半之间的比率的反正切至少等于35°的角度并且至多等于80°的角度。 | ||
| 申请公布号 | CN104350628A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201380028138.6 | 申请日期 | 2013.05.29 |
| 申请人 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 发明人 | B·多默克;F·西那皮 |
| 分类号 | H01L51/52(2006.01)I;C03C15/00(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/52(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张力更 |
| 主权项 | 用于光电子器件的具有改善的光学性能的玻璃基材，在其面之一上包含透明电极，其特征在于所述基材在与其上沉积有所述透明电极的面相对的该基材的面上由一组几何图案完全地或者部分地肌理化，使得图案的平均高度R<sub>z</sub>与两个相邻图案的顶点相隔的平均距离R<sub>Sm</sub>的一半之间的比率的反正切至少等于35°的角度并且至多等于80°的角度。 | ||
| 地址 | 比利时卢万-拉-讷沃 | ||