| 发明名称 | 可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法 | ||
| 摘要 | 该本发明涉及可显影底部抗反射涂层(BARC)组合物以及使用该BARC组合物形成图案的方法。该BARC组合物包括第一聚合物，其具有第一羧酸组成部分、含羟基的脂环族组成部分、以及第一发色团组成部分；第二聚合物，其包含第二羧酸组成部分、含羟基的无环状组成部分、以及第二发色团组成部分；交联剂；以及辐射敏感的酸产生剂。第一以及第二发色团组成部分各自吸收光波长为100nm-400nm。在图案形成方法中,BARC组合物BARC层上形成光致抗蚀剂层。在曝光以后，光致抗蚀剂层以及该BARC层未曝光区域通过显影剂有选择地被除去以在光致抗蚀剂层中形成图案化结构。该BARC组合物以及该图案形成方法尤其对注入级别有用。 | ||
| 申请公布号 | CN104335079A | 申请公布日期 | 2015.02.04 |
| 申请号 | CN201380027001.9 | 申请日期 | 2013.06.27 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 陈光荣;S·霍尔梅斯;黄武松;R·邝惠玲;刘森 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 夏正东 |
| 主权项 | 底部抗反射涂层(BARC)组合物,其包含：第一聚合物，所述第一聚合物包含第一羧酸组成部分、含羟基的脂环族组成部分、以及第一发色团组成部分，该第一发色团组成部分吸收波长范围为100nm至400nm的光；第二聚合物，所述第二聚合物包含第二羧酸组成部分、含羟基的无环状组成部分、以及第二发色团组成部分，该第二发色团组成部分吸收波长范围为100nm至400nm的光；交联剂；以及辐射敏感的酸产生剂。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||