下层膜材料及图案形成方法;UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS

摘要

本发明提供一种下层膜材料，系于微影使用之光阻下层膜材料，其特征为含有具经取代或非经取代之萘酚酞之重复单元的酚醛清漆树脂。本发明之光阻下层膜材料可被硷性水溶液剥离。具有萘酚酞之重复单元的酚醛清漆树脂，于硷性水溶液中水解而产生羧基，并且变成可溶于硷性水溶液。藉此，能不对于已植入离子之Si基板或SiO2基板造成损伤而剥离。