发明名称 背面探测式光子辐射显微镜装置及测试方法
摘要 本发明提供一种背面探测式光子辐射显微镜装置及其测试方法,所述装置包括:探针座,其上表面用于支撑探针座,所述探针座的一端与探针臂的一端相连接,所述探针臂的另一端与探针的一端相连接;样品台,悬置于所述探针座上方,所述样品台朝向所述探针座一侧的表面用于放置半导体芯片,所述半导体芯片的所述金属互连层与探针的针尖相接触;若干光学透镜,间隔设置于样品台和探针台的下方,用于光学聚焦,所述光学透镜与所述样品台、探针座、探针臂和探针之间具有安全工作距离;多个探测器,位于所述光学透镜下方,用于缺陷定位和分析。本发明提供的背面探测式光子辐射显微镜装置及及其测试方法,能够从半导体芯片正面进行分析。
申请公布号 CN104316856A 申请公布日期 2015.01.28
申请号 CN201410597388.8 申请日期 2014.10.29
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 唐涌耀
分类号 G01R31/26(2014.01)I 主分类号 G01R31/26(2014.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 王宏婧
主权项 一种背面探测式光子辐射显微镜装置,包括:探针座,具有上表面,所述上表面用于支撑探针座,所述探针座的一端与探针臂的一端相连接,所述探针臂的另一端与探针的一端相连接;样品台,悬置于所述探针座上方,所述样品台朝向所述探针座一侧的表面用于放置半导体芯片,所述半导体芯片具有半导体衬底和位于半导体衬底上的金属互连层,所述半导体芯片正面向下固定于样品台,所述金属互连层与探针的针尖相接触;若干光学透镜,间隔设置于样品台和探针台的下方,用于光学聚焦,所述光学透镜与所述样品台、探针座、探针臂和探针之间具有安全工作距离;多个探测器,位于所述光学透镜下方,用于对所述金属互连层进行进行缺陷定位和分析。
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