电子束、Ｘ射线或ＥＵＶ用光阻组成物、光阻膜及使用其之图案形成方法

摘要

一种电子束、X射线或EUV用正型光阻组成物包括(A)一种由下式(I)表示之化合物，及(B)一种可因酸之作用分解而增加在硷显影液中溶解度之树脂，其包括由下式(II)表示之重复单元及由下式(III)表示之重复单元：;(I);(II) (III)

主权项

X射线或EUV用正型光阻组成物，其包含：(A)一种由下式(I)表示之化合物，及(B)一种可因酸之作用分解而增加在硷显影液中溶解度之树脂，其包含由下式(II)表示之重复单元及由下式(III)表示之重复单元：式(I)中各R1至R13独立地表示氢原子或取代基，其条件为R1至R13至少之一表示含醇系羟基之取代基；Z表示单键或无电子吸引性质之二价键联基；及X-表示抗衡阴离子；其中各R01独立地表示氢原子、烷基、环烷基、卤素原子、氰基、或烷氧基羰基；L1与L2可为彼此相同或不同，而且各L1与L2独立地表示氢原子、烷基、环烷基、或芳烷基；M表示单键或二价键联基；Q表示烷基、环烷基、或可含杂原子之脂环或芳环基；及Q、M与L1至少之二可彼此键结形成5-或6-员环；A表示卤素原子、氰基、醯基、烷基、烷氧基、醯氧基、或烷氧基羰基；及各m与n独立地表示0至4之整数，其条件为m与n不同时表示0。