带有透明电极的基板及其制造方法以及触摸面板

摘要

本发明的带有透明电极的基板（100）在透明膜基板（1）的至少一面依次具有：以SiO_x为主要成分的第一电介质层（21）、以金属的氧化物为主要成分的第二电介质层（22）、以SiO_y为主要成分的第三电介质层（23）、及透明电极层（4）。透明电极层（4）被图案化为电极层形成部（4a）与电极层非形成部（4b）。透明电极层（4）是以铟-锡复合氧化物为主要成分且膜厚为20nm～35nm的层。上述第一电介质层的折射率n₁、上述第二电介质层的折射率n₂、及上述第三电介质层的折射率n₃满足n₃＜n₁＜n₂的关系。第一电介质层（21）、第二电介质层（22）及第三电介质层（23）具有规定的膜厚。

主权项

一种带有透明电极的基板，在透明膜基板的至少一面，依次具有第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、及被图案化的透明电极层；所述第一电介质层是以SiO_x为主要成分且膜厚为1nm～25nm的硅氧化物层，其中x≥1.5；所述第二电介质层是以选自Nb、Ta、Ti、Zr、Zn、及Hf中的1种以上的金属的氧化物为主要成分且膜厚为5nm以上且小于10nm的金属氧化物层；所述第三电介质层是以SiO_y为主要成分且膜厚为35nm～55nm的硅氧化物层，其中y＞x；所述透明电极层是以铟‑锡复合氧化物为主要成分且膜厚为20nm～35nm的导电性金属氧化物层；所述第一电介质层的折射率n₁、所述第二电介质层的折射率n₂、及所述第三电介质层的折射率n₃满足n₃＜n₁＜n₂的关系；所述透明电极层的折射率n₄为1.88以下、电阻率为5.0×10^‑4Ω·cm以下。