发明名称 薄膜の製造方法
摘要 本発明は、複合膜をなす薄膜を製造する方法に係り、薄膜を積層していくときに表面状態を改善する薄膜の製造方法に関する。本発明の実施形態は、基板の上に異なる薄膜を製造する方法において、第1薄膜を蒸着するステップと、第2薄膜を蒸着するステップと、前記第1薄膜と第2薄膜を蒸着した後に、前記薄膜の表面に高周波数電力を印加して薄膜表面の不純物を除去するステップと、を含み、前記第1薄膜の表面に第2薄膜を蒸着する前に、熱化学気相蒸着(Thermal−CVD)により第1薄膜の表面にバッファ膜を形成して表面エネルギーを低減する。
申请公布号 JP2015501551(A) 申请公布日期 2015.01.15
申请号 JP20140539875 申请日期 2012.11.02
申请人 ウォニック アイピーエス カンパニー リミテッド 发明人 ナ ギョンピル;クォン ヨンス
分类号 H01L21/316;C23C16/02;C23C16/30;H01L21/318 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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