| 发明名称 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，通过在阵列基板的基板之上，依次设置有源层、栅绝缘层以及栅电极层，所述有源层在水平方向上依次设置有第一重掺杂区、第一低掺杂区、第一非掺杂区、第二低掺杂区、第二非掺杂区、第三低掺杂区、第二重掺杂区。从而可在确保开口率的前提下，有效降低低温多晶硅薄膜晶体管的热量产生以及有效抑制多晶硅薄膜晶体管的漏电流。 | ||
| 申请公布号 | CN104282696A | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
| 申请号 | CN201410566635.8 | 申请日期 | 2014.10.22 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 谢振宇 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，包括：基板之上依次设置的有源层、栅绝缘层以及栅电极层，其中，所述有源层在水平方向上依次设置有第一重掺杂区、第一低掺杂区、第一非掺杂区、第二低掺杂区、第二非掺杂区、第三低掺杂区、第二重掺杂区。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||