| 发明名称 |
氧化物触媒、其制造方法、及使用其之不饱和醛之制造方法 |
| 摘要 |
本发明系一种氧化物触媒，其系用于烯烃及/或醇之氧化反应者，且含有钼、铋、铁、钴、铈，铋相对于12个钼原子之原子比a为2≦a≦6，铁相对于12个钼原子之原子比b为2.5<b≦5，钴相对于12个钼原子之原子比c为2≦c≦8，铈相对于12个钼原子之原子比d为0.5≦d≦6，铁/钴之原子比为0.4≦b/c≦2.5，以X射线绕射中于33.50°显示波峰之铈与钼之复合氧化物的面间隔d为基准时，d之变化率为5000~9000ppm。 |
| 申请公布号 |
TWI468222 |
申请公布日期 |
2015.01.11 |
| 申请号 |
TW101122276 |
申请日期 |
2012.06.21 |
| 申请人 |
旭化成化学股份有限公司 日本 |
发明人 |
吉田淳;山口辰男;泉山健治 |
| 分类号 |
B01J23/83;B01J23/84;B01J37/08;C07C45/35 |
主分类号 |
B01J23/83 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
| 主权项 |
一种氧化物触媒，其系用于烯烃及/或醇之氧化反应者，且含有钼、铋、铁、钴、铈，铋相对于12个钼原子之原子比a为2≦a≦6，铁相对于12个钼原子之原子比b为2.5<b≦5，钴相对于12个钼原子之原子比c为2≦c≦8，铈相对于12个钼原子之原子比d为0.5≦d≦6，铁/钴之原子比为0.4≦b/c≦2.5，以X射线绕射中于33.50°显示波峰之铈与钼之复合氧化物的面间隔d为基准时，d之变化率为5000~9000ppm。 |
| 地址 |
日本 |
