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<p>Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauelement mit den Schritten: Bilden zumindest eines kristallographisch modifizierten Bereichs (BM; BM1, BM2; BMa, BMb, BMc) in einem Volumenbereich im Innern (I) eines monokirstallinen Substrat (1; 1'; 1''), sodass der zumindest eine kristallographisch modifizierte Bereich (BM; BM1, BM2; BMa, BMb, BMc) ein gegenüber einer Umgebung des Volumenbereichs geändertes Ätzverhalten in einem vorbestimmten kristallrichtungselektiven Nassätzschritt aufweist; Bilden einer Ätzmaske (AM) mit einer Maskenöffnung (M1) auf einer Hauptoberfläche (RS) des Substrats (1; 1'; 1''); und Durchführen des kristallrichtungsselektiven Nassätzschrittes unter Verwendung der Ätzmaske (AM), wobei die Ätzmaske (AM) in Bezug auf den zumindest einen kristallographisch modifizierten Bereich (BM; BM1, BM2; BMa, BMb, BMc) derart angeordnet ist, dasss dieser von einer Ätzfront durch die Maskenöffnung (M1) der Ätzmaske (AM) in Kombination mit der natürlichen Flankenwinkeln erreicht wird, wobei der zumindest eine kristallographisch modifizierte Bereich (BM; BM1, BM2; BMa, BMb, BMc) und ein umgebender Bereich des Substrats (1; 1'; 1'') entfernt werden und dadurch eine Kaverne (K; K'; K'') im Substrat (1; 1'; 1'') ausgebildet wird.</p> |
